安捷伦ICPMS质谱仪，痕量元素检测“看得见、测得准“

安捷伦ICPMS质谱仪，痕量元素检测"看得见、测得准"  

金玉仪器代理销售的安捷伦ICPMS产品覆盖多个主流型号：面向常规痕量分析的7700系列、7800和7850单四极杆ICP-MS，以及面向高纯材料与科研的7900ICP-MS、8900串联四极杆ICP-MS/MS。不同配置对应不同应用场景，用户可根据样品基体、检测限要求与预算选择合适的机型，由专业工程师协助完成配置评估。  

灵敏度与检出限：ppt级痕量轻松捕捉  

安捷伦ICPMS采用电感耦合等离子体离子源与质谱检测器组合，具备多元素同步分析能力。仪器检出限可低至ng/L级（ppt级），部分元素经形态分析联用后可实现亚ng/mL级测定。相比常规原子吸收光谱（AAS），其多元素同时测定的效率明显更高，单次进样即可完成主量与痕量元素的同步测量，减少重复测定。  
 

动态范围：十个数量级一次覆盖  

7850、7900等型号具备约10～11个数量级的浓度线性动态范围，能够在单次运行中同时测量常量元素与痕量元素。以7850为例，其线性动态范围达10个数量级，简化了方法设置流程，主量元素无需单独调整仪器条件，明显减少因结果超范围导致的复测次数，提升实验室通量。  

高基质耐受：总溶解固体量达25%不再稀释  

针对高盐、高基体样品，安捷伦7850ICP-MS可处理总溶解固体量（TDS）高达25%的样品，配合超高基质进样（UHMI）气溶胶稀释系统，减少繁琐的稀释步骤。7700x标配耐高盐进样系统（HMI），针对高盐复杂基体样品预设等离子体条件，使复杂样品分析成为常规工作。稳定的低CeO/Ce等离子体提供较好的基质耐受性，保障长期运行稳定。  

干扰控制：氦碰撞池与半质量校正双管齐下  

7850和7900采用第四代八极杆反应池系统（ORS4），通过氦（He）碰撞模式结合动能歧视（KED）有效控制常见多原子干扰；7850还具备半质量校正功能，可规避双电荷离子干扰，自动M2+校正提升砷、硒等元素的准确度。7900支持小于5秒的池气体快速切换，适应不同干扰场景的方法切换需求。  

串联质谱能力：ICP-MS/MS解决难测元素  

安捷伦8900串联四极杆ICP-MS（ICP-MS/MS）在碰撞反应池前增设四极杆质量过滤器（Q1），实现双重质量过滤（MS/MS），精确控制反应化学过程。其突出能力在于解决此前单四极杆难以稳定分析的硅（Si）、磷（P）、硫（S）等元素，并可应对同量异位素重叠问题。四通道反应池气体控制提供快速、灵活的多模式操作，可选SEMIS2合规套件，满足半导体行业规范要求。  

应用领域：覆盖六大检测行业  

凭借灵敏度、动态范围与干扰控制能力，安捷伦ICP-MS广泛应用于食品重金属及元素形态分析、环境水体与土壤监测、药品杂质与重金属控制、半导体高纯材料痕量分析、玩具与消费品有害元素筛查，以及电子电器材料分析。配合液相色谱等联用技术，还可开展砷、硒等元素的形态分析，满足日趋严格的法规要求。